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고급 알루미나 분말 분야에서 원료가 군사 방위 및 반도체 전자 부문이라는 두 가지 고장벽 산업 분야를 동시에 아우르는지 여부는 순도, 낮은 나트륨 함량, 입자 크기 제어 등 전반적인 성능에 달려 있다. 산동 그레이츠선 아오펑 그룹 환경신소재 유한공사(Shandong Greatsun Aopeng Group Environmental New Materials Co., Ltd.)가 생산하는 AL-10B 저나트륨 반응성 소성 α-알루미나는 바로 이러한 특수 원료로, 탄도 세라믹 방탄판과 반도체 전자 부품용 995 과립 분말 모두에 적용된다.
탄도 세라믹: 분말에서 NIJ 레벨 III 보호까지
AL-10B는 산화알루미늄(Al₂O₃) 순도 99.78%를 달성하며, 소결 세라믹 밀도는 ≥ 3.9 g/cm³, 경도는 ≥ HRA 88, 탄성 계수는 > 317 GPa이다. 총탄 충격 순간, 고경도 세라믹 표면이 변형되며 투사체를 파쇄하고, 높은 탄성 계수가 응력을 신속히 분산시킨다. 나트륨산화물(Na₂O) 함량은 단지 0.033%로, 업계 기준치인 0.05%보다 현저히 낮아 고온 소결 시 비정상적인 입자 성장을 효과적으로 억제하며, 충격 인성 ≥ 2.2 J/cm²을 확보한다. 좁은 입자 크기 분포(D₅₀ = 1.6 μm, SPAN = 1.13)는 균일한 대판 성형과 안정적인 소결 수축을 보장하여 양산 수율을 크게 향상시킨다. 고객 실사격 테스트를 통해 검증된 이 소재는 GA141 레벨 5 및 NIJ 레벨 III(AK47급 위협) 방호 기준을 만족한다.
반도체 995 과립 분말: 전자 부품의 신뢰할 수 있는 핵심 재료
AL-3GA/AL-10B는 반도체 전자 부품에 사용되는 995 과립 분말(산화알루미늄 99.5%)의 원료로도 채택된다. 반도체 분야는 산화알루미늄 분말 내 알칼리 금속 함량—특히 나트륨 이온(Na⁺)—에 극도로 민감한데, 고온 및 전계 하에서 이온 이동이 일어나 소자의 누설 전류 발생과 성능 저하를 초래할 수 있다. AL-10B은 초저나트륨 특성(0.033%)을 갖추어 이러한 위험을 근원적으로 차단한다. 또한 반응 소결 특성이 뛰어나 995 세라믹스를 낮은 온도에서 밀도화시킬 수 있어, 미세하고 균일한 입자 구조를 형성하며 유전 손실은 낮고 절연 저항은 높다. IC 패키징 기판, 전력 소자용 세라믹 하우징, 고주파 절연 부품 등에 적합하다. 과립화 후에는 우수한 흐름성과 높은 그린 강도를 제공하여 드라이 프레싱 및 아이소스태틱 프레싱 성형 공정에 원활하게 적용된다.
제품 장점
○ 이중 궤도 검증: 탄도 세라믹 실사격 시험과 반도체 부품 응용 시험을 동시에 통해 입증됨.
○ 안정적인 저나트륨 함량: Na₂O ≤ 0.04%로 로트 간 일관된 제어가 가능하여 결정계 약화 및 이온 이동을 방지함.
○ 좁은 입자 크기 분포: SPAN = 1.13으로 균일한 성형과 안정적인 소결을 달성함.
○ 자체 생산 라인: 산둥 그레이츠선 아오펑의 자체 터널 가마에서 소성 처리하여 대량 공급과 단축된 리드타임을 보장함.
그레이츠선 아오펑 AL-10B — 하나의 원료로 두 가지 용도를 동시에 충족시키는 제품으로, 군사 방위부터 반도체 및 디스플레이에 이르기까지 고급 세라믹의 안정적인 원료 공급을 보장함. 샘플 시험 문의는 당사로 연락 주시기 바랍니다!
